Bia phún xạ Vanadium (V), 3N, D50xT0.4,mm, CXAM Co., Ltd-TQ

Gợi ý tìm kiếm: Thí Nghiệm Sinh Học, Thí Nghiệm Thủy Sản...

Bia phún xạ Vanadium (V), 3N, D50xT0.4,mm, CXAM Co., Ltd-TQ

Mã sản phẩm: Vanadium (V) Sputtering Target, 3N, Size: D50xT0.4,mm

Giá: 6.847.000đ

Giá khuyến mãi: 4.168.000đ

Bia phún xạ Vanadium (V), 3N, D50xT0.4,mm, CXAM Co., Ltd-TQ

Hãng sản xuất: CXAM Co., Ltd - Trung Quốc

Xuất xứ: Trung Quốc

Mã hàng đặt hàng: Vanadium (V) Sputtering Target, 3N, Size: D50xT0.4,mm

Quy cách: 01 bia phún xạ V, 3N, Size: D50xT0.4,mm/ 1 túi hút chân không

Hàng mới 100%, chưa qua sử dụng.

CHÚ Ý:

-HÀNG CÓ SẴN: 01 cái/ túi hút chân không

- Update ngày: 17/09/2026

- Giao hàng miễn phí trong nội thành TP.HCM có bán kính từ 5-8km so với bên Bán.

- Giá trên chỉ áp dụng cho số lượng có sẵn này và đã bao gồm VAT (Thuế VAT thay đổi theo quy định hiện hành của Việt Nam) kèm hoá đơn điện tử cho mỗi đơn hàng.

- Khách hàng vui lòng gọi ĐT để cập nhật báo giá mới khi mua nhiều hơn số lượng hàng có sẵn.

- Vui lòng liên hệ Hotline/Zalo: 098 918 2955 – 0969 440 430 để biết thêm chi tiết.

Thông tin chi tiết

Vật liệu bia bắn phá vanadi có những đặc tính tương đồng với vật liệu nguồn của nó. Vanadi là một nguyên tố hóa học có ký hiệu V và số hiệu nguyên tử 23. Nó là một kim loại chuyển tiếp cứng, màu xám bạc, dẻo và dễ uốn. Kim loại nguyên tố này hiếm khi được tìm thấy trong tự nhiên, nhưng một khi được phân lập nhân tạo, sự hình thành lớp oxit (thụ động hóa) phần nào ổn định kim loại tự do chống lại quá trình oxy hóa tiếp tục. Vanadi dẫn điện và cách nhiệt, và nó cứng hơn hầu hết các kim loại và thép. Nó có khả năng chống ăn mòn tốt và ổn định đối với kiềm, axit sulfuric và axit clohydric. Nó bị oxy hóa trong không khí ở khoảng 933 K (660 °C, 1220 °F), mặc dù lớp oxit thụ động hóa hình thành ngay cả ở nhiệt độ phòng.

Vật liệu bia bắn phá vanadi được sản xuất bằng công nghệ nấu chảy. Do oxit vanadi có các đặc tính quang học và điện rất đặc biệt, nó có thể được ứng dụng trong cửa sổ thông minh hồng ngoại, thiết bị chuyển mạch điện quang, vật liệu bảo vệ laser và vật liệu tàng hình. Với độ tinh khiết lên đến 3N và xử lý ủ đặc biệt, kích thước hạt đồng nhất cũng như hàm lượng khí thấp hơn, người dùng cuối có thể thu được tốc độ ăn mòn ổn định và lớp phủ màng mỏng có độ tinh khiết cao và đồng nhất trong quá trình PVD.

Hình ảnh bên dưới là hai ảnh hiển vi của mục tiêu phún xạ vanadi của chúng tôi, kích thước hạt trung bình <100μm.

Thông số kỹ thuật hóa học:

Bia phún xạ độ tinh khiết cao của chúng tôi có thể giúp màng phim đạt được độ dẫn điện vượt trội và giảm thiểu sự hình thành hạt trong quá trình PVD. Biểu mẫu bên dưới là chứng nhận phân tích (COA) điển hình của Bia phún xạ Vanadi (V) độ tinh khiết 99,9% (3N):

Elements Actual Spec Units Elements Actual Spec Units Elements Actual Spec Units

Li ppm Zn ppm Pb ppm

B <10 ppm Ga ppm Bi ppm

F ppm Ge ppm Y ppm

Na ppm As ppm Th ppm

Mg ppm Se ppm Er ppm

Al 170 ppm Zr <10 ppm Ru ppm

Si 15 ppm Nb 52 ppm Rh ppm

P <10 ppm Mo <10 ppm Os ppm

Cl ppm Pd ppm Cd ppm

K ppm Ag ppm In ppm

Ca ppm Sn <10 ppm